UV光氧催化废气处理设备工业废气处理设备在设计中，主要需要注意的风机的风量和风压，有机溶剂回收系统和填料，气注分离器这三个大的部分。如果我们在设计时不能注意这几点，那么在使用的时候，可能就不会起到相应的作用效果，那么接下来光氧催化设备厂来学习下它的设计需要注意什么？
1.风机风量和风压
大家都知道选择什么工业废气处理设备都是配置适当的风机才能有效收集气体，风量太小没有办法起到收集气体的作用，风量太大就产生的浪费，风压太高的话，会把吸收剂从出口带走，总之，适当的选择风机风量是很重要的，所以一般这个设计都是由技术人员来进行的。
你想知道工业废气处理设备怎么设计的吗？
2.有机溶剂回收系统和填料
工业废气处理设备中的有机溶剂回收系统是怎么保证吸收效率呢？那就是要均匀地分布吸收剂，所以有机溶剂回收系统必须能够保证液体的均匀分布。可以增加吸收剂和气体接触的面积，以利于气液充分接触，提高对三苯有机物的吸收效率，填料的主要作用是提高阻力，使气体的流速减缓。
3.气液分离器
在工业废气处理设备中要采用气液分离器，它能在末端将排放气体中夹带的溶剂分离并回收系统内部，使得出口的气体中有机物含量不超过国家标准。
工业废气处理设备在进行设计的时候，一定要考虑它自身的使用原则，然后在进行使用的时候，设备才会发挥出良好的使用效果。
光氧催化废气处理设备主要利用特制的高能高臭氧UV紫外线光束照射废气，裂解工业废气如：氨、三甲胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、乙酸丁酯、乙酸乙酯、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯、硫化物H2S,VOC类、苯、甲苯、二甲苯的分子链结构，使有机或无机高分子恶臭化合物的分子链在高能紫外线的光束的照射下降解转变成低分子化合物，如CO2和H2O等。利用高能高臭氧UV紫外线光束分解空气中的氧分子及水分子产生游离氧（活性氧）和OH自由基，因游离氧和所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而产生臭氧。UV+O2---O_+O*(活性氧)+O2---O3（臭氧），众所周知臭氧对有机物具有极强的氧化作用，对工业废气及其它刺激性异味有立竿见影的清除效果。
光氧催化废气处理设备主要利用特制的高能高臭氧UV紫外线光束照射废气，裂解工业废气如：氨、三甲胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、乙酸丁酯、乙酸乙酯、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯、硫化物H2S,VOC类、苯、甲苯、二甲苯的分子链结构，使有机或无机高分子恶臭化合物的分子链在高能紫外线的光束的照射下降解转变成低分子化合物，如CO2和H2O等。利用高能高臭氧UV紫外线光束分解空气中的氧分子及水分子产生游离氧（活性氧）和OH自由基，因游离氧和所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而产生臭氧。UV+O2---O_+O*(活性氧)+O2---O3（臭氧），众所周知臭氧对有机物具有极强的氧化作用，对工业废气及其它刺激性异味有立竿见影的清除效果。
UV光氧催化废气处理设备光氧催化设备性能优势
1、高效除恶臭：能高效去除挥发性有机物（VOC），无机物、硫化氢、氨气、硫醇类等主要污染物，以及各种恶臭气体，脱臭效率*高可达99%以上，脱臭效果大大超过国家1993年颁布的恶臭污染物排放标准（GB14554-93）和1996年颁布的大气污染物综合排放标准（GB16297-1996）
2、无需添加任何物质：只需要设置相应的排风管道和排风动力，使恶臭、工业废气通过本设备进行脱臭分解净化，无需添加任何物质参与化学反应；
3、适应性强：光氧催化废气处理设备可适应高浓度、大气量、不同工业废气的脱臭、净化处理。可每天24小时连续工作，运行稳定可靠；
4、光氧催化废气处理无任何机械动作，无噪声、无需专人管理和日常维护，只需作定期检查，本设备能耗低，设备风阻低《＝＝400pa,可节约大量排风；
5、设备占地面积小、自重轻、适合于布置紧凑、场地特殊条件；
6、优质进口材料制造：防火、防腐蚀性能高，设备性能安全稳定，采用不锈钢材质或PP，设备使用寿命在十五年以上；
7、采用*上*先进技术理念，可彻底分解工业废气中有害有毒物质，并能达到完美的脱臭、净化效果，经分解后的工业废气，可完全达到无害排放，不产生二次污染，同时达到高效消毒杀菌的作用；
8、设备具有安全、防爆特性，已通过国家防爆电器产品质量监督检验中心的防爆合格认证，能广泛应用于采油、石油化工制药等防爆要求高的行业。
UV光氧催化废气处理设备
(1)光氧催化适和在常温下将废臭气体完全氧化成无毒无害的物质，适和处理高浓度、气量大、稳定性强的有毒有害气体的废气处理。（2）有效净化彻底：通过光氧催化可直接将空气中的废臭气体完全氧化成无毒无害的物质，不留任何二次污染。（3）绿色能源：光氧催化利用人工紫外线灯夹沙管道产生的真空波紫外光作为能源来活化光氧催化剂，驱动氧化—还原反应，而且光氧催化剂在反应过程中并不消耗，利用空气中的氧作为氧化剂，有效地降解有毒有害废臭气体成为光氧催化节约能源的*大特点。（4）氧化性强：半导体光氧催化具有氧化性强的特点，对臭氧难以氧化的某些有机物如CHCl3、四氯化炭、六氯苯、都能有效地加以分解，所以对难以降解的有机物具有特别意义，光氧化化的有效氧化剂是羟基自由基（OH-）和超氧离子自由基（O2-、0-），其氧化性高于常见的臭氧、双氧水、K2MnO4、次氯酸等。（5）广谱性：光氧催化对从烃到羧酸的种类众多有机物都有效，即使对原子有机物如卤代烃、染料、含氮有机物、有机磷杀虫剂也有很好的去除效果，只要经过一定时间的反应可达到完全净化。（6）寿命长：在理论上，光氧催化剂的寿命是无限长的，无需更换。
